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前言：在半导体领域，中国确实存在着许多落后的地方，比如最典型的光刻机制造。要知道，顶端芯片的制造都离不开光刻机，可是在美国禁令的影响下，进口顶端光刻机也遇到了阻碍。不过最近，中科院传来了一个好消息，果然没让大家失望。
之前，就曾有消息称，中科院早在7月份就研发出了新型5nm超高精度激光光刻技术。一旦这项技术被应用于国产光刻机中，必然会帮助半导体实现跨越式的进步。当然了，短时间内实现5nm的量产还有很大难度，但是实现10nm，甚至7nm芯片的量产，机会还是很大的。
不过，这项技术还未应用到商业中，但只要取得了突破，就证明研发光刻机也没有想象中的那么难。
除此之外，还有一个好消息，最近华为遭到了美国的制裁，正在寻找自救之路。就在此时，中科院站了出来，给华为喂下一颗“定心丸”。
据报道，中科院正式入场，将集中力量攻克光刻机、关键半导体材料等“卡脖子”技术。事实上，中国芯的困境已经持续了很长时间，如果光靠华为，很难实现突围，如今“国家队”的强势入场，一定会扭转败局，同时还可以打破西方的技术封锁。
这也意味着，国产芯片将迎来全新的时代，到时候7nm的量产，将极大解决华为芯片的库存短缺问题。
之前，ASML信誓旦旦的说，他们丝毫不担心光刻机技术泄露，因为光刻机内许多零部件来源于其它国家，因技术封锁，我国是无法取得完美突破的。如今，中科院光刻机技术的突破，再加上和华为的合作，一定会让创造出令人惊讶的奇迹。 |
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发表于 2020-10-8 07:01:17
